Научные исследования включают в себя множество проб и ошибок. Это также связано с необходимостью решать иногда противоречивые проблемы. Показательный пример применим к термическому оборудованию от компании «VacuumLux.Ru», которая занимается реализацией промышленных вакуумных печей.
Вакуумная печь используется там, где необходима сушка, но о нагреве не может быть и речи. Аналогично для ситуаций, когда трение от движущегося воздуха может привести к повреждению образца или процесса. Когда вам нужно высушить образец, микрочип или препарат, единственным реальным решением является удаление жидкости без необратимого изменения вещества. Для решения этого сложного набора задач необходимо использовать силы гидростатического давления.
Использование вакуумной печи
Есть две основные причины использовать вакуумную печь для сушки в лабораторных условиях:
- Во-первых, следует избегать проблем, связанных с другими формами сушки. Тепло является врагом множества различных летучих веществ и биологических образцов. Окисление от кислорода, вводимого в процессе сушки, также может привести к снижению долговечности или критическим ошибкам в некоторых объектах.
- Во-вторых, при работе с биологическими или биологически активными веществами необходим точный уровень контроля для репликации образцов. Другие методы сушки оставляют более открытые переменные, чем вакуумная сушка, которая контролирует давление, температуру и воздушный поток, все из которых ограничивают загрязнение и погрешности.
Качественная вакуумная печь избавляет от догадок при подготовке образцов и быстро предохраняет дорогостоящие компоненты от порчи после попадания влаги, то есть разливов.
Что такое сушка?
На молекулярном уровне сушка — это удаление молекул воды из окружающих материалов. Лучший способ вывести воду — это разорвать связи и преобразовать жидкую воду в пар, который будет выходить, оставляя более плотные твердые частицы и другие жидкие материалы позади.
Вакуумная сушка
Для вакуумной сушки необходимо быстро отводить выходящий водяной пар от поверхностного материала, чтобы не допустить повышения температуры выходящей энергии на поверхности. Поддержание вакуума при одновременном пропускании большого количества воздуха через систему является ее собственным противоречием. Для этого вакуумная печь тщательно регулирует подачу и отвод воздуха.
Во время процесса вакуумной сушки температура поверхности высушиваемого объекта должна оставаться почти постоянной. Если температура повысится, это может повредить объект, если она станет слишком низкой, образуется конденсат, позволяющий вновь преобразованному водяному пару объединиться в жидкость.
Чтобы компенсировать эти эффекты, источник тепла нагревает объект в тщательной координации с окружающим воздухом. Каждую температуру необходимо поддерживать, добавляя больше тепла, быстро удаляя пар и одновременно вводя новый воздух, движущийся в правильном направлении.
